- PVD真空鍍膜不勻稱的難題的解決方法
技術(shù)層面的不斷發(fā)展趨勢(shì)，在一定程度上解決了PVD真空鍍膜不均勻的問(wèn)題。但是，從大的角度來(lái)看，在任何情況下，我們的申請(qǐng)過(guò)程中都會(huì)出現(xiàn)不均衡的情況，不對(duì)稱是肯定存在的。但是，如果我們能夠做出更強(qiáng)的調(diào)整，當(dāng)它的相對(duì)性處于穩(wěn)定階段時(shí)，就不會(huì)損害到大家的正常應(yīng)用。解決PVD真空鍍膜不均勻的問(wèn)題近兩年來(lái)，越來(lái)越多的PV2023-09-05 - 真空鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)和原理真空電鍍加工由機(jī)械泵、分散泵、增壓泵、膨脹泵、rot泵、碎紙機(jī)輪分子泵等組成。根據(jù)整體目標(biāo)原料的電阻蒸發(fā)法和磁控源選擇技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)和*限多弧開(kāi)關(guān)電源電鍍工藝方法，可選擇真空泵測(cè)量的大型數(shù)字智能負(fù)壓計(jì)和高質(zhì)量的測(cè)量規(guī)格，以及全自動(dòng)工作壓力機(jī)械手等檢測(cè)儀器。薄膜厚度的測(cè)量可以用塊阻測(cè)量?jī)x、透光儀等來(lái)完成。真空鍍2023-08-25
- 電腦鍵盤(pán)才進(jìn)入了納米防水的新時(shí)代多年來(lái)，防水鍵盤(pán)一直在不斷創(chuàng)新，那么你知道有哪些防水技術(shù)可用嗎?讓我們從薄膜鍵盤(pán)開(kāi)始。在早期，膜鍵盤(pán)并沒(méi)有防水的設(shè)計(jì)，但在慘痛的教訓(xùn)之后，我們終于開(kāi)始慢慢研究防水技術(shù)最開(kāi)始，最簡(jiǎn)單的防水技術(shù)是在鍵盤(pán)背面加排水孔，使其在進(jìn)水后能迅速流出，以免內(nèi)部積水對(duì)薄膜電路造成損害。我們都知道，薄膜鍵盤(pán)是通過(guò)薄膜電路2023-08-18
- 真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問(wèn)題無(wú)論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來(lái)講是工件架的中間位置。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空2023-06-16
- 涂層真空鍍膜機(jī)的常見(jiàn)問(wèn)題分析鍍膜真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)。用于滿足各種加工需求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金刀具。其性能更穩(wěn)定，工件質(zhì)量更高，可防止功能面、刀片和拉伸半徑的磨損，顯著延長(zhǎng)工件的使用壽命，提高沖程率和生產(chǎn)率，降低單位成本。那么，使用鍍膜真空鍍膜機(jī)有哪些常見(jiàn)的問(wèn)題呢？下面真空鍍膜機(jī)編輯就為你列舉幾個(gè)內(nèi)容:(1)2023-06-16
- 真空鍍膜機(jī)的正常工作條件是什么真空沉積機(jī)主要是指一種需要在高真空下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等類型。真空鍍膜機(jī)的正常工作條件是什么？1. 環(huán)境溫度:10~30℃2. 相對(duì)濕度:不超過(guò)70%3.冷卻水入口溫度:不高于25℃4. 冷卻水水質(zhì):城市自來(lái)水或同等水質(zhì)5. 電源電壓:380V、三相50Hz或220V、單相50Hz(根據(jù)所2023-06-07
